【专利摘要】一种抛釉砖，其由下而上依次包括底坯层、A印花层、A透明釉层、B印花层、B透明釉层。在A、B印花层中有一层透明釉层，因而可以叠加两层印花的装饰效果，装饰效果更自然；且表面层透明釉经过两次淋釉而成，因而透明釉层能够完全干燥，在烧制过程中不会发生裂痕，烧制后经非弹性模块抛磨后能够保证抛釉砖的表面平整度，不会产生波浪形；所制得的产品在光线的照射下，光线经过两次透射和折射，使得花纹立体感强，交相辉映，自然大气，能够很好的实现仿天然石材的装饰效果。

　　[0002] 抛釉砖也叫全抛釉砖，是近年来新兴的一种建筑陶瓷产品，其集合了抛光砖、仿古 砖、瓷片三种产品的优势，产品完全释放了釉面砖哑色暗光的含蓄性，解决了半抛砖易藏污 的缺陷，具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度，同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果，以及瓷片 釉面丰富的印刷效果。现有的抛釉砖是在砖坯上印刷装饰层后在装饰层上施〇. 5?1. 5mm 透明釉层烧制后，经弹性模块抛磨而成。由于透明釉层很薄，且使用弹性模块，使得釉面层 与模块表面接触不全，产生砖面波浪形，在整体铺贴使用时，会影响装饰美观性和整体感。 同时，由于表面透明釉层较薄，使得透明釉层下的装饰层显得不够立体，较为呆板，尤其是 近距离观看时仿天然纹理效果较差。 实用新型内容

　　[0003] 本实用新型的目的在于提出一种抛釉砖，其可以产生立体花纹效果，能够很好的 实现仿天然纹理。

　　[0004] 为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：一种抛釉砖，其由下而上依次包括底 坯层、A印花层、A透明釉层、B印花层、B透明釉层。

　　[0006] 与现有技术相比，本实用新型的抛釉砖在两次印花层中有一层透明釉层，因而可 以叠加两层印花的装饰效果，装饰效果更自然；且本实用新型的抛釉砖表面层透明釉经过 两次淋釉而成，并且两次淋釉过程中有干燥步骤，因而透明釉层能够完全干燥，在烧制过程 中不会发生裂痕，烧制后经非弹性模块抛磨后能够保证抛釉砖的表面平整度，不会产生波 浪形；同时由于本实用新型的抛釉砖具有两层透明釉层和两层印花层，在光线的照射下，光 线经过两次透射和折射，使得花纹立体感强，交相辉映，自然大气，能够很好的实现仿天然 石材的装饰效果。

　　[0008] 其中：底坯层1、A印花层2、A透明釉层3、B印花层4、B透明釉层5。

　　[0009] 下面通过【具体实施方式】来进一步说明本实用新型的技术方案。

　　[0011] 如图1所示，本实施例的一种抛釉砖，其由下而上依次包括底坯层1、A印花层2、A 透明釉层3、B印花层4、B透明釉层5,其中底坯层1厚度为8. 5mm，A印花层厚度为0· 05mm， A透明釉层厚度为0. 7mm，B印花层厚度为0. 03mm，B透明釉层厚度为0. 3mm。其具有两层透 明釉层和两层印花层，在光线的照射下，光线经过两次透射和折射，使得花纹立体感强，交 相辉映，自然大气，能够很好的实现仿天然石材的装饰效果。

　　[0012] 如上所述的规格为1000*1000_的抛釉砖制造方法，步骤依次包括：

　　[0013] A、将原料配料球磨进行喷雾造粒后压制形成砖述，干燥后在所述砖述上淋300g 底釉形成底坯层1 ;

　　[0014] B、在所述步骤A后的所述底坯层1上通过丝网印花并干燥后形成A印花层2，淋透 明釉950g形成A透明釉层3 ;

　　[0015] C、在所述步骤B后的所述A透明釉层3上通过辊筒印花并干燥后形成B印花层4， 再淋一层透明釉600g，然后干燥；

　　[0016] D、在所述步骤C后的砖坯上再淋上一层透明釉600g，然后干燥形成B透明釉层5 ; [0017] E、将所述步骤D后的所述砖坯入窑烧制后使用非弹性模块进行抛磨后，包装入 库。

　　[0018] 本实施例中由于采用两次印花，在A、B印花层中有一层A透明釉层3,因而可以叠 加两层印花的装饰效果，装饰效果更自然；B透明釉层5经过两次淋釉而成，并且两次淋釉 过程中有干燥步骤，因而B透明釉层5能够完全干燥，在烧制过程中不会发生裂痕，烧制后 经非弹性模块抛磨后能够保证抛釉砖的表面平整度，不会产生波浪形。

　　[0020] 如图1所不，本实施例的一种抛釉砖，底述层1厚度为9mm，A印花层厚度为 0· 08mm，A透明釉层厚度为0· 3mm，B印花层厚度为0· 08mm，B透明釉层厚度为0· 7mm。

　　[0022] 如图1所示，本实施例的一种抛釉砖，底述层1厚度为6mm，A印花层厚度为0· 1mm， A透明釉层厚度为0· 3mm，B印花层厚度为0· 08mm，B透明釉层厚度为0· 5mm。

　　[0024] 如图1所示，本实施例的一种抛釉砖，底述层1厚度为9mm，A印花层厚度为0· 必博首页1mm， A透明釉层厚度为0· 3mm，B印花层厚度为0· 08mm，B透明釉层厚度为0· 7mm。

　　[0026] 如图1所示，本实施例的一种抛釉砖，底坯层1厚度为8. 7mm，A印花层厚度为 0· 08mm，A透明釉层厚度为0· 5mm，B印花层厚度为0· 1mm，B透明釉层厚度为0· 6mm。

　　[0027] 以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实 用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释， 本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它【具体实施方式】， 这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。

　　1. 一种抛釉砖，其特征在于：由下而上依次包括底坯层、A印花层、A透明釉层、B印花 层和B透明釉层。

　　2. 根据权利要求1所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述底坯层厚度为6-9mm。

　　3. 根据权利要求1所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述A印花层的厚度小于0. 1mm。

　　4. 根据权利要求3所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述B印花层的厚度小于0. 1mm。

　　5. 根据权利要求1所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述A透明釉层的厚度为 0· 3-0. 7mm〇

　　6. 根据权利要求5所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述A透明釉层的厚度为 0· 5-0. 7mm〇

　　7. 根据权利要求5所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述B透明釉层的厚度为 0· 3-0. 7mm〇

　　8. 根据权利要求7所述的一种抛釉砖，其特征在于：所述B透明釉层的厚度为 0· 5-0. 7mm〇

　　【发明者】丘云灵, 熊玉 申请人:佛山市东鹏陶瓷有限公司, 广东东鹏控股股份有限公司, 丰城市东鹏陶瓷有限公司, 广东东鹏陶瓷股份有限公司

　　技术所有人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏陶瓷股份有限公司

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